DNP logra una resolución de patrón de línea de 10 nanómetros en plantilla de nanoimpresión para semiconductores de última generación
- Admite semiconductores de una generación de 1,4 nanómetros, además de reducir los costes de fabricación y el consumo de energía - "El comunicado en el idioma original es la versión oficial y autorizada del mismo. Esta traducción es solamente un medio de ayuda y deberá ser comparada con el texto en idioma original, que es la única versión del texto que tendrá validez legal". - Business Wire